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產品型號：WD4MS-VFC-N-589
更新時間：2026-02-02
廠商性質：經銷商
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晶圓制造日本KITZ隔膜閥 防顆粒高潔凈
采用 316L 不銹鋼閥體，可選 EP 電解拋光處理，適配超高純工況。搭載 VFC 精準流量控制功能，零死角無積液流路設計，從源頭降低顆粒污染風險，匹配晶圓制程中高純工藝流體輸送需求。支持免工具更換閥座，維護便捷，密封性能優(yōu)異且無泄漏，滿足半導體潔凈室嚴苛標準，是晶圓制造高純流體控制的優(yōu)選閥件。
晶圓制造日本KITZ隔膜閥 防顆粒高潔凈
專為晶圓制造行業(yè)量身打造的高潔凈流體控制核心部件，聚焦半導體晶圓制程中高純流體輸送的嚴苛需求，以防顆粒、高潔凈、精準控制為核心亮點，適配TEOS等高純液體材料輸送，廣泛應用于晶圓氧化、光刻、薄膜沉積等關鍵工序，是保障晶圓制造良率的精密流體控制解決方案。
該隔膜閥采用高適配性結構設計，核心材質選用316L不銹鋼，分為STD標準型與EP電解拋光型兩種配置，其中EP型經專業(yè)電解拋光處理，內表面粗糙度Ra≤0.4μm，可有效減少流體滯留和顆粒吸附，從源頭降低晶圓制程中的顆粒污染風險，10級以上潔凈室運行標準，契合晶圓制造對環(huán)境潔凈度的要求。閥體采用零死角、無積液流路設計，避免流體殘留導致的交叉污染，適配高純試劑、特種氣體等晶圓制造核心工藝流體的輸送需求。
作為晶圓制造專用款，其核心優(yōu)勢集中在防顆粒、高潔凈與精準控制三大維度。防顆粒設計貫穿整體結構，不僅優(yōu)化了流路弧度，減少流體湍流產生的顆粒，還采用專用隔膜材質與PCTFE閥座，兼具優(yōu)異的密封性與耐磨性，避免閥座磨損產生顆粒雜質，同時通過嚴格的原廠潔凈檢測，確保產品出廠時無多余顆粒殘留，適配晶圓納米級制程的潔凈要求。
VFC精準流量控制功能是該型號的核心技術亮點，可實現(xiàn)流體流量的精細化調節(jié)，適配晶圓制造中不同工序對流體流量的差異化需求，調節(jié)精度高、穩(wěn)定性強，有效保障工藝參數的一致性，助力提升晶圓生產良率。閥門采用手動驅動方式，270°旋轉手柄操作便捷，同時 actuator直徑達39.7mm，可適配40mm線間距安裝，適配晶圓制造設備的緊湊布局，安裝靈活性強。
維護便捷性與耐用性大幅貼合工業(yè)生產需求，支持用戶側免工具更換閥座組件，無需拆卸整個閥門，有效縮短維護時間，降低設備停機成本，同時閥座組件與WD4手動閥系列通用，便于備件儲備，進一步控制長期運行成本。產品耐受溫度范圍為-10℃至80℃，使用壓力可達2.94MPa，耐腐蝕性強，可適配晶圓制造中各類工藝化學品的輸送，使用壽命長達5-8年，長期運行穩(wěn)定性優(yōu)異。
該產品嚴格遵循日本KITZ原廠生產標準，經過多道精密加工與檢測工序，符合半導體行業(yè)高純流體控制的相關標準，同時通過了嚴苛的密封性能測試，確保零泄漏運行，避免高純流體泄漏造成的工藝異常與安全隱患。無論是大型晶圓廠的批量生產，還是實驗室的小批量研發(fā)，WD4MS-VFC-N-589隔膜閥都能憑借其精準的控制性能、優(yōu)異的潔凈度與高適配性，成為晶圓制造高純流體控制的優(yōu)選部件，助力半導體行業(yè)高效、穩(wěn)定生產。
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