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現品庫存：日本ORC半導體用光刻設備PPS-8300P1 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。
日本ORC半導體用光刻設備PPS-8200P1 兼容多種應用：可兼容 WL-CSP、IGBT、CIS 等 6/8/12 英寸光刻技術，適用于多種半導體制造場景。 寬頻譜光刻：具備寬帶曝光功能，可根據配方自動切換 GHI 線、GH 線、I 線，滿足不同光刻工藝對波長的需求。 可變數值孔徑：搭載可變 NA 功能，數值孔徑可在 0.16 和 0.1 之間變化，能夠根據不同的光刻精度要求進行調整。 多場拼
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